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半导体行业酸碱废气塔PP花环填料R1/K2

半导体行业酸碱废气塔PP花环填料R1/K2

简要描述:半导体行业酸碱废气塔PP花环填料R1/K2空隙率大,压降和传质单元高度低,泛点高,汽液接触充分,比重小,传质效率高等特点,多用于气体洗涤、净化塔中。

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所属分类:塑料花环

更新日期:2021-10-13

厂商性质:生产厂家

详情介绍
含量≥99.9%材质PVC,PP,CPVC

半导体行业酸碱废气塔PP花环填料R1/K2的原理:

半导体行业酸碱废气塔PP花环填料R1/K2也叫拉西环填充材料是一种高效率,低压损的填充材料,外形犹如螺丝缠绕而成,当溶液与污染空气相对冲击形成雾状之小水滴包围整个填充材所有其效果不仅靠表面吸附,其吸附效果与管型填充材,马鞍形填充材在压降与容积都较好,所有特拉瑞德填充材在同等体积下可降低40℅~50℅之静压损失,在同等压降下体积可减少35℅~50℅,且空隙率大物质转移系数高,其处理效率比其他型填充材提高26℅~35℅;其材质可为PVC,PP,CPVC供选择使用,并能符合新半导体法规。

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产品介绍:    

半导体行业酸碱废气塔用的PP特拉瑞德环的分为R形和K形两种,都是对泰勒花环填料的改进,R型特拉瑞德填料的主筋如入螺丝缠绕而成,并减去了边筋,所以也被称作无边花环填料,K型特拉瑞德填料则是在泰勒花环填料的主筋外部平均分布很多刺型凸点,所以也称做带刺花环填料,其构思是不让向下流的液体有流动死角。由于有很多弯曲枝叉和结合凸点,当溶液与污染空气相对冲击形成雾状之小水滴包围整个填料,其效果不仅仅靠表面吸附,所以特拉瑞德填料在同等体积下可降低40%~50%之压力损失,且空隙率大传质效率高,其处理效率比其它型鲍尔环或异鞍环等提高26%~35%;使液体能在填料层中均匀分布,能加强汽液的分布和混合,对提高传质具有更好的作用。由于其结构上的特点,使填料的压降减小,从而达到更节能的目的。半导体行业酸碱废气塔用的PP特拉瑞德环有空隙率大,不易被堵塞,通量大、阻力小等优点,且间隙处有较多的滞液量,使塔内液体停留时间较长,增加了气液接触时间,提高效率明显。

由于这种填料的间隙处能有较高的滞液量,可使塔内液体停留时间较长,从而增加了气液的接触时间,提高了填料的传质效率。聚丙烯填料具有空隙率大,压降和传质单元高度低,泛点高,汽液接触充分,比重小,传质效率高等特点,多用于气体洗涤、净化塔中。



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